重生之网络争霸 第709章：中国光刻机的希望

“前面就是asml的一些大佬了。”

“这边是德州仪器的。”

“还有飞利浦的。”

“至于左边的……你认得，台积电的张总。”

一进研讨会现场，张如京便向陈宇纷纷介绍着一众芯片领域的大佬。

此时，大概也是看到张如京，台积电张中谋却是缓缓走了过来。

“陈宇小友，别来无恙呀。”

张中谋首先向陈宇打起了招呼，然后又看向了张如京：“如京，你也来了。”

“张总，这样的全球性大会，我怎么能不来。”

张如京虽然被张中谋坑了一把，但他为人内敛，一向善于藏锋。

他知道，就算是与张中谋撕破脸，这对于他也没有什么好处。

“呵呵，我就知道你会来。”

张中谋笑道：“如京，你可是找了一位好的合作者，你们的天问芯片非常棒。不过，我看中心现在的生产能力，可能有一些跟不上市场的需求度吧。”

“这个就不容张总担心了。”

只是张如京虽然这样回答，便张中谋却看向了陈宇：“我觉得陈宇小友应该有自己的判断。”

很显然。

张如京拒不拒绝并不重要。

重要的是陈宇的态度。

中心国际只是一家代工厂，他是给别人代工芯片的。

也就是说，生产出来的芯片是环宇科技的。

环宇科技给中心国际下多少单，中心国际才能生产多少芯片。

如果中心国际产能不够，环宇科技完全可能将一部分订单下给台积电。

“张老先生说的是，我会考虑的。”

陈宇没有拒绝，同样也没有答应。

但这般回答，张中谋却是无比的满意。

“陈宇，你不要被张中谋给坑了。”

待张中谋离开，张如京有些不悦的说道。

“张总，放心，我们才是同盟。”

陈宇用眼神示意张如京放宽心：“不过，有的时候，我们也不是不能坑他一把。”

被张中谋算计过，陈宇可一直不爽。

有仇不报，那不是陈宇的性格。

“呵，陈宇，你还挺记仇的。”

“我又不是圣人，肯定记仇。”

陈宇说道：“上次你被坑了，其实也因我而起。说起来，有都有些不好意思。”

“过去的事情不要再提，这完全不怪你。要怪，就怪我们实力太弱。”

这一说，两人都是沉默。

两人参加这一次全球性的芯片开发会议，又如何不想振兴国内芯片产业呢。

只是两人都知道，虽然他们有着无比的雄心，但前路却是无比的坎坷。

“好了，别说这些了，先听他们说些什么。”

指着前方，张如京说道：“这位是飞利浦的首席技术官，他们的芯片技术很厉害。当年的asml其实就是从飞利浦分出来的。”

陈宇点了点头，用心的听着。

但可惜，对于技术陈宇并不是很在行。

再加上陈宇英语虽然也还可以，但涉及到这么专业的术语，陈宇听得头都大。

果然，当初就知道来了与没来一样。

就算是来了，同样也听不懂。

只是一边的张如京却听得不时拍手称好，看到陈宇有一些无所事事，便问道：“感觉如何？”

“没感觉。”

“怎么没感觉？”

“听不懂。”

“这也是，技术可能太复杂了，你毕竟不是专业搞芯片的。”

“主要是我听不懂他英语说的是什么。”

“噗……”

张如京目瞪口呆。

但这也是。

像这么专业的知识，别说是英语一般的，哪怕是英语很牛逼的也感觉是听天书。

不过，既然来了，虽然有些听不懂，但陈宇也没有提前离开。

“这是日本佳能的技术大佬？”

随着一个一个技术大拿纷纷演讲结束，这时，陈宇却看到讲台上走上了一位黄皮肤黑眼睛的亚洲人。

“不是，他是一位越南籍华人，他叫林本艰，祖上好像也是客家人，台积电的技术大拿，在光刻机这一块很有研究。”

“噢。”

陈宇点头。

他这一次来这里听研讨会的目的，不就是为了光刻机吗？

原本他以为，只要涉及到光刻机的，要么是荷兰，要么是德国，要么是日本。

没想到，在光刻机领域竟然还有一位华人大拿。

这一次，他倒要认真的听了。

但可惜。

虽然林本艰会说中文，但在这样的全球性研讨会上，演讲用的还是英语。

与此前一样，陈宇也感觉在听天书。

听了好一会，陈宇只听到干式，湿式什么的。

“张总，那个林本艰说的干式和湿式是什么意思？”

“说的是生产光刻机的一种技术工艺，目前我们大部分普遍用的是干式光刻机生产工艺。也就是用空气做为镜头与晶圆间的介质，让光罩上的图形在晶圆上成象。不过，这个林本艰觉得，还可以用一种湿式工艺。”

“什么是湿式？”

“他说的这个湿式名字叫做浸润式，与湿式差不多。但用的介质却不一样，我们一般现在用的是空气，而林本艰提成了用水做为浸润式的介质。”

“水？”

听到水这个词，陈宇陈宇有些激动。

记得前世，其实在开始之初，荷兰aslm与德国，与日本几大光刻机公司实力都差不多。

为什么后来aslm却是一统天下，完全与这一些光刻机公司选择的路线有关。

当时日本，德国，包括美国这一些光刻机公司路线选择出错。

而aslm却是花重金开辟了另一条光刻机生产工艺。

这个工艺，就涉及到水，也就是林本艰现在提到的浸润式。

“您觉得他的这个工艺有没有前途？”

陈宇不是很懂技术，但却知道，这是决定未来光刻机命运的时刻。

在前世2008年之后，全球90%以上生产出来的芯片，用的都是林本艰所提出来的湿式光刻工艺。并且，也正因为林本艰提出了这个湿式工艺，这才将芯片从190纳米，一路做到了130纳米，90纳米，65纳米，40纳米，28纳米，20纳米，16纳米，10纳米，7纳米，和5纳米。甚至，连最为尖端的3纳米，采用的都是林本艰的湿式光刻技术。

“这个，说不准，理论上有可能，但里面还存在着一系列要解决的问题。比如，水会不会产生汽泡，水会不会污染设备，要怎么做防水，水遇热会膨胀，折射率会改变，这又怎么解决……”

张如京向陈宇述说着这一个湿式光刻工艺所面对的问题。

只是，这个时候，陈宇的眼睛已经盯紧了林本艰。

他知道。

未来若干年之后，这一切的问题都不会成为问题。

如果抓住这个林本艰，那么，中国光刻机就有希望了。